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菁優(yōu)網(wǎng)C和Si元素在化學中占有極其重要的地位。
(1)寫出Si的基態(tài)原子核外最外層電子排布式
3s23p2
3s23p2
,C、O、Si三種元素的電負性由大到小的順序為
O>C>Si
O>C>Si
。
(2)干冰是分子晶體,其密度比冰大的原因是
干冰晶體屬于分子密堆積,分子間只有范德華力;而冰晶體屬于分子非密堆積,分子間的主要作用力是氫鍵,水分子的空間利用率不高,留有相當大的空隙,所以干冰的密度比冰大
干冰晶體屬于分子密堆積,分子間只有范德華力;而冰晶體屬于分子非密堆積,分子間的主要作用力是氫鍵,水分子的空間利用率不高,留有相當大的空隙,所以干冰的密度比冰大
。SiC晶體的結(jié)構(gòu)與晶體硅的相似,其中C原子的雜化方式為
sp3
sp3
。
(3)氧化物XO的電子總數(shù)與SiC的相等,則X為
Mg
Mg
(填元素符號),XO是優(yōu)良的耐高溫材料,其熔點比CaO高的原因是
Mg2+半徑比Ca2+小,MgO的晶格能大
Mg2+半徑比Ca2+小,MgO的晶格能大
。
(4)向盛有硫酸銅水溶液的試管中加氨水,先形成藍色沉淀,繼續(xù)加入氨水沉淀溶解,得到深藍色透明溶液。在這個過程中先生成藍色沉淀,后沉淀溶解的原因是:
向盛有硫酸銅水溶液的試管里加入氨水,首先生成氫氧化銅沉淀,Cu2++2NH3?H2O=Cu(OH)2↓+2NH4+,氫氧化銅與氨水發(fā)生反應:Cu(OH)2+4NH3?H2O=[Cu(NH34]2++2OH-+4H2O,沉淀溶解
向盛有硫酸銅水溶液的試管里加入氨水,首先生成氫氧化銅沉淀,Cu2++2NH3?H2O=Cu(OH)2↓+2NH4+,氫氧化銅與氨水發(fā)生反應:Cu(OH)2+4NH3?H2O=[Cu(NH34]2++2OH-+4H2O,沉淀溶解

(5)如圖表示的是SiO2的晶胞結(jié)構(gòu)(白圈代表硅原子,黑點代表氧原子),判斷在30g二氧化硅晶體中含
2
2
molSi-O鍵。如果該立方體的邊長為acm,用NA表示阿伏加德羅常數(shù),則SiO2晶體的密度表達式為
480
N
A
a
3
480
N
A
a
3
g/cm3

【答案】3s23p2;O>C>Si;干冰晶體屬于分子密堆積,分子間只有范德華力;而冰晶體屬于分子非密堆積,分子間的主要作用力是氫鍵,水分子的空間利用率不高,留有相當大的空隙,所以干冰的密度比冰大;sp3;Mg;Mg2+半徑比Ca2+小,MgO的晶格能大;向盛有硫酸銅水溶液的試管里加入氨水,首先生成氫氧化銅沉淀,Cu2++2NH3?H2O=Cu(OH)2↓+2NH4+,氫氧化銅與氨水發(fā)生反應:Cu(OH)2+4NH3?H2O=[Cu(NH34]2++2OH-+4H2O,沉淀溶解;2;
480
N
A
a
3
【解答】
【點評】
聲明:本試題解析著作權(quán)屬菁優(yōu)網(wǎng)所有,未經(jīng)書面同意,不得復制發(fā)布。
發(fā)布:2024/4/20 14:35:0組卷:10引用:1難度:0.5
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  • 菁優(yōu)網(wǎng)1.A、B、C、D、E、F是元素周期表中前四周期元素,且原子序數(shù)依次增大,其相關(guān)信息如下:
    ①A的周期序數(shù)等于其主族序數(shù);
    ②B、D原子的L層中都有兩個未成對電子;
    ③E元素原子最外層電子排布式為(n+1)Sn(n+1)Pn-1;
    ④F原子有四個能層,K、L、M全充滿,最外層只有一個電子.
    試回答下列問題:
    (1)基態(tài)E原子中,電子占據(jù)的最高能層符號為
     
    ,F(xiàn)的價層電子排布式為
     

    (2)B、C、D的電負性由大到小的順序為
     
    (用元素符號填寫),C與A形成的分子CA3的VSEPR模型為
     

    (3)B和D分別與A形成的化合物的穩(wěn)定性:BA4小于A2D,原因是
     

    (4)以E、F的單質(zhì)為電極,組成如圖1所示的裝置,E極的電極反應式為
     

    (5)向盛有F的硫酸鹽FSO4的試管里逐滴加入氨水,首先出現(xiàn)藍色沉淀,繼續(xù)滴加氨水,藍色沉淀溶解,得到深藍色溶液,再向深藍色透明溶液中加入乙醇,析出深藍色晶體.藍色沉淀溶解的離子方程式為
     

    (6)F的晶胞結(jié)構(gòu)(面心立方)如圖2所示:已知兩個最近的F的距離為acm,F的密度為
     
    g/cm3(阿伏加德羅常數(shù)用NA表示,F(xiàn)的相對原子質(zhì)量用M表示)

    發(fā)布:2025/1/18 8:0:1組卷:14引用:2難度:0.5
  • 菁優(yōu)網(wǎng)2.鐵及其化合物在生產(chǎn)生活及科學研究方面應用非常廣泛。
    (1)基態(tài)Fe原子的價層電子的電子排布圖為
     
    ;其最外層電子的電子云形狀為
     

    (2)(NH42Fe(SO42?6H2O俗稱摩爾鹽
    ①NH4+電子式為
     
    。
    ②N、O兩元素的第一電離能由大到小的順序為
     
    (用元素符號表示)
    ③SO42-中S原子的雜化方式為
     
    ,VSEPR模型名稱為
     

    (3)K3[Fe(CN)6]晶體中中心原子的配位數(shù)為
     
    ;晶體的配位體為
     
    (用化學符號表示)
    (4)FeS2晶體的晶胞如圖(c)所示。晶胞邊長為a nm、FeS2相對式量為M,阿伏加德羅常數(shù)的值為NA,其晶體密度的計算表達式為
     
    g?cm-3

    發(fā)布:2025/1/5 8:0:1組卷:7引用:1難度:0.7
  • 菁優(yōu)網(wǎng)3.碳及其化合物有著重要用途?;卮鹣铝袉栴}:
    (1)基態(tài)碳原子的價層電子排布圖為
     
    。
    (2)在CH2=CHCN中,碳原子的雜化方式有
     
    、
     
    ,所含σ鍵數(shù)目和π鍵數(shù)目之比為
     
    。
    (3)甲烷、水、氨氣中C、O、N原子均采用sp3雜化方式,VSEPR模型均為正四面體構(gòu)型,比較三者鍵角的大小
     
    (由大到小,用H一R-H表示),其原因是
     
    。
    (4)C60室溫下為紫紅色固體,不溶于水,能溶于四氯化碳等非極性溶劑。據(jù)此判斷C60的晶體類型是
     
    。
    (5)C60晶胞結(jié)構(gòu)如圖,C60分子處于頂點和面心。已知:C60晶胞棱長為14.20? (1?=10-8cm),則C60的晶體密度為
     
    g/cm3。
    C60體中存在正四面體空隙(例如1、3、6、7四點構(gòu)成)和正八面體空隙(例如3、6、7、8、9、12六點構(gòu)成),則平均每一個C60晶胞中有
     
    個正四面體空隙和4個正八面體空隙。當堿金屬元素全部占滿所有空隙后,這類C60摻雜物才具有超導性。若用金屬銫(Cs)填滿所有空隙,距離最近的兩個Cs原子間的距離為
     
     ?。

    發(fā)布:2025/1/5 8:0:1組卷:53引用:2難度:0.4
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