氯化亞銅是有機(jī)合成工業(yè)中應(yīng)用較廣的催化劑。
（1）CuCl用作制備碳酸二甲酯的催化劑：4CH₃OH+2CO+O₂

C

u

C

l

2（CH₃O）₂CO+2H₂O
請(qǐng)?zhí)顚?xiě)化學(xué)方程式將催化原理補(bǔ)充完整：
?。?CuCl+4CH₃OH+O₂═4Cu（CH₃O）Cl+H₂O
ⅱ．

2Cu（CH₃O）Cl+CO→（CH₃O）CO+2CuCl

2Cu（CH₃O）Cl+CO→（CH₃O）CO+2CuCl

。
（2）一種用廢銅制備氯化亞銅的過(guò)程如下：
Cu（s）+Cl₂（g）═CuCl₂（s）△H=-akJ?mol^-1
CuCl₂（s）+Cu（s）+4HCl（aq）═2H₂[CuCl₃]（aq）△H=+bkJ?mol^-1
CuCl₂（s）+2HCl（aq）?H₂[CuCl₃]（aq）△H=-ckJ?mol^-1
①反應(yīng)2Cu（s）+Cl₂（g）?2CuCl₂（s）△H=

-a+b+2c

-a+b+2c

kJ?mol^-1（用含a、b、c的式子表示）
②向CuCl₂溶液中加入過(guò)量銅粉，發(fā)生反應(yīng)生成CuCl₂．但在實(shí)驗(yàn)過(guò)程中要加入濃鹽酸反應(yīng)才能持續(xù)進(jìn)行，反應(yīng)結(jié)束后將溶液倒入蒸餾水中稀釋獲得CuCl₂．加入濃鹽酸的目的是

溶解CuCl,防止其覆蓋在銅表面阻礙反應(yīng)進(jìn)行

溶解CuCl,防止其覆蓋在銅表面阻礙反應(yīng)進(jìn)行

。
（3）在電解槽中電解氨性含銅蝕刻廢液，電解后向陰極液中加入鹽酸酸化，再倒入蒸餾水稀釋，得到氯化亞銅沉淀。

①電解裝置如圖1所示，陰極區(qū)電極方程式為

Cu（NH₃）₄²⁺+e^-=Cu（NH₃）₂⁺+2NH₃

Cu（NH₃）₄²⁺+e^-=Cu（NH₃）₂⁺+2NH₃

。
②稀釋過(guò)程中溶液的溫度不同，得到沉淀質(zhì)量和氯化亞銅百分含量變化如圖2所示。從氯化亞銅產(chǎn)率角度分析，最佳稀釋溫度為

20℃

20℃

；溫度越高得到氯化亞銅沉淀質(zhì)量越小，其原因可能是：?。訜徇^(guò)程中部分氯化亞銅被氧化ⅱ．

溫度高CuCl溶解度增大

溫度高CuCl溶解度增大

。